कोटिंग फॅक्टरी पुरवठादारासाठी उच्च शुद्ध ९९.८% टायटॅनियम ग्रेड ७ राउंड स्पटरिंग लक्ष्य टीआय मिश्र धातु लक्ष्य
उत्पादन पॅरामीटर्स
उत्पादनाचे नाव | पीव्हीडी कोटिंग मशीनसाठी टायटॅनियम लक्ष्य |
ग्रेड | टायटॅनियम (Gr1, Gr2, Gr5, Gr7, GR12)मिश्रधातूचे लक्ष्य: Ti-Al, Ti-Cr, Ti-Zr इ |
मूळ | बाओजी शहर शानक्सी प्रांत चीन |
टायटॅनियमचे प्रमाण | ≥९९.५ (%) |
अशुद्धता सामग्री | <0.02 (%) |
घनता | ४.५१ किंवा ४.५० ग्रॅम/सेमी३ |
मानक | एएसटीएम बी३८१; एएसटीएम एफ६७, एएसटीएम एफ१३६ |
आकार | १. गोल लक्ष्य: Ø३०--२००० मिमी, जाडी ३.० मिमी--३०० मिमी;२. प्लेट टार्ग: लांबी: २००-५०० मिमी रुंदी: १००-२३० मिमी जाडी: ३--४० मिमी;३. ट्यूब लक्ष्य: व्यास:३०-२०० मिमी जाडी:५-२० मिमी लांबी:५००-२००० मिमी;४. सानुकूलित उपलब्ध आहे |
तंत्र | बनावट आणि सीएनसी मशीन केलेले |
अर्ज | सेमीकंडक्टर सेपरेशन, फिल्म कोटिंग मटेरियल, स्टोरेज इलेक्ट्रोड कोटिंग, स्पटरिंग कोटिंग, सरफेस कोटिंग, ग्लास कोटिंग उद्योग. |
टायटॅनियम लक्ष्याच्या रासायनिक आवश्यकता
एएसटीएम बी२६५ | जीबी/टी ३६२०.१ | जेआयएस एच४६०० | मूलभूत घटक (≤wt%) | ||||||
N | C | H | Fe | O | इतर | ||||
टायटॅनियम प्युअर | ग्रेड १ | टीए१ | वर्ग १ | ०.०३ | ०.०८ | ०.०१५ | ०.२० | ०.१८ | / |
ग्रेड २ | टीए२ | वर्ग २ | ०.०३ | ०.०८ | ०.०१५ | ०.३० | ०.२५ | / | |
टायटॅनियममिश्रधातू | ग्रेड ५ | टीसी४टीआय-६एएल-४व्ही | वर्ग ६० | ०.०५ | ०.०८ | ०.०१५ | ०.४० | ०.२ | अल:५.५-६.७५ व्ही:३.५-४.५ |
ग्रेड ७ | टीए९ | इयत्ता १२वी | ०.०३ | ०.०८ | ०.०१५ | ०.३० | ०.२५ | पीडी: ०.१२-०.२५ | |
ग्रेड १२ | टीए१० | वर्ग ६०ई | ०.०३ | ०.०८ | ०.०१५ | ०.३० | ०.२५ | महिना: ०.२-०.४ नि:०.६-०.९ |
खोलीच्या तपमानावर रेखांशाचे यांत्रिक गुणधर्म
ग्रेड | तन्यता शक्तीआरएम/एमपीए(>=) | शक्ती उत्पन्न कराआरपी०.२(एमपीए) | वाढवणेए४डी(%) | क्षेत्रफळ कमी करणेझेड(%) |
ग्रेड १ | २४० | १४० | 24 | 30 |
ग्र२ | ४०० | २७५ | 20 | 30 |
ग्र५ | ८९५ | ८२५ | 10 | 25 |
ग्रॅ७ | ३७० | २५० | 20 | 25 |
ग्रा १२ | ४८५ | ३४५ | 18 | 25 |
टायटॅनियम स्पटरिंग लक्ष्य
टायटॅनियम स्पटर लक्ष्याचा सामान्य आकार: Φ१००*४०, Φ९८*४०, Φ९५*४५, Φ९०*४०, Φ८५*३५, Φ६५*४० इ.
ग्राहकांच्या विनंत्या किंवा रेखाचित्रांनुसार देखील सानुकूलित केले जाऊ शकते
लक्ष्य आवश्यकता: उच्च शुद्धता, एकसमान क्रिस्टल धान्य आणि चांगली कॉम्पॅक्टनेस.
शुद्धता: ९९.५%, ९९.९५%, ९९.९८%, ९९.९९५%.
टायटॅनियम लक्ष्य उत्पादन प्रक्रिया
टायटॅनियम स्पंज --- टायटॅनियम पिंडात वितळवलेला --- चाचणी --- पिंड कापणे --- फोर्जिंग --- रोलिंग --- सोलणे --- सरळ करणे --- अल्ट्रासोनिक दोष शोधणे --- पॅकिंग
टायटॅनियम लक्ष्य वैशिष्ट्ये
१. कमी घनता आणि उच्च विशिष्टता ताकद
२. उत्कृष्ट गंज प्रतिकार
३. उष्णतेच्या प्रभावाला चांगला प्रतिकार
४. क्रायोजेनिक्स गुणधर्मांना उत्कृष्ट आधार
५. चुंबकीय नसलेले आणि विषारी नसलेले
६. चांगले थर्मल गुणधर्म
७. कमी लवचिकता मापांक