कोटिंगसाठी उच्च शुद्ध ९९.८% टायटॅनियम ग्रेडचे ७ राऊंड स्पटरिंग टार्गेट्स (टीआय अलॉय टार्गेट) बनवणारे फॅक्टरी पुरवठादार.
उत्पादन मापदंड
| उत्पादनाचे नाव | पीव्हीडी कोटिंग मशीनसाठी टायटॅनियम टार्गेट |
| ग्रेड | टायटॅनियम (गट १, गट २, गट ५, गट ७, गट १२)मिश्रधातूचे लक्ष्य: Ti-Al, Ti-Cr, Ti-Zr इ |
| मूळ | बाओजी शहर शानक्सी प्रांत चीन |
| टायटॅनियम सामग्री | ≥९९.५ (%) |
| अशुद्धता सामग्री | <०.०२ (%) |
| घनता | ४.५१ किंवा ४.५० ग्रॅम/सेमी³ |
| मानक | ASTM B381; ASTM F67, ASTM F136 |
| आकार | १. गोल लक्ष्य: Ø३०--२०००मिमी, जाडी ३.०मिमी--३००मिमी;२. प्लेटचे लक्ष्य: लांबी: २००-५०० मिमी रुंदी: १००-२३० मिमी जाडी: ३--४० मिमी;३. ट्यूबचे लक्ष्य: व्यास: ३०-२०० मिमी, जाडी: ५-२० मिमी, लांबी: ५००-२००० मिमी;४. सानुकूलित उपलब्ध आहे |
| तंत्र | फोर्ज केलेले आणि सीएनसी मशीन केलेले |
| अर्ज | सेमीकंडक्टर विलगीकरण, फिल्म कोटिंग साहित्य, स्टोरेज इलेक्ट्रोड कोटिंग, स्पटरिंग कोटिंग, पृष्ठभाग कोटिंग, काच कोटिंग उद्योग. |
टायटॅनियम लक्ष्याच्या रासायनिक आवश्यकता
| ASTM B265 | जीबी/टी ३६२०.१ | जेआयएस एच४६०० | मूलद्रव्यांचे प्रमाण (≤वजन%) | ||||||
| N | C | H | Fe | O | इतर | ||||
| टायटॅनियम शुद्ध | इयत्ता १ | टीए१ | वर्ग १ | ०.०३ | ०.०८ | ०.०१५ | ०.२० | ०.१८ | / |
| इयत्ता २ | टीए२ | वर्ग २ | ०.०३ | ०.०८ | ०.०१५ | ०.३० | ०.२५ | / | |
| टायटॅनियममिश्रधातू | इयत्ता ५ वी | टीसी४टीआय-६एएल-४व्ही | वर्ग ६० | ०.०५ | ०.०८ | ०.०१५ | ०.४० | ०.२ | एएल:५.५-६.७५ व्ही:३.५-४.५ |
| इयत्ता ७ | टीए९ | इयत्ता १२ वी | ०.०३ | ०.०८ | ०.०१५ | ०.३० | ०.२५ | Pd:०.१२-०.२५ | |
| इयत्ता १२ वी | टीए१० | वर्ग ६०ई | ०.०३ | ०.०८ | ०.०१५ | ०.३० | ०.२५ | मो:०.२-०.४ Ni:0.6-0.9 | |
सामान्य तापमानावर अनुदैर्ध्य यांत्रिक गुणधर्म
| ग्रेड | ताण शक्तीRm/MPa(>=) | उत्पन्न शक्तीRp0.2(MPa) | लांबी वाढवणेए४डी (%) | क्षेत्रफळ घटझेड (%) |
| गट १ | २४० | १४० | 24 | 30 |
| गट २ | ४०० | २७५ | 20 | 30 |
| इयत्ता ५ | ८९५ | ८२५ | 10 | 25 |
| इयत्ता ७ | ३७० | २५० | 20 | 25 |
| इयत्ता १२ वी | ४८५ | ३४५ | 18 | 25 |
टायटॅनियम स्पटरिंग टार्गेट्स
टायटॅनियम स्पटर टार्गेटचे सामान्य आकार: Φ100*40, Φ98*40, Φ95*45, Φ90*40, Φ85*35, Φ65*40 इत्यादी.
तसेच ग्राहकांच्या विनंतीनुसार किंवा रेखाचित्रांनुसार सानुकूलित करता येते.
अपेक्षित आवश्यकता: उच्च शुद्धता, एकसमान स्फटिक कण आणि उत्तम घट्टपणा.
शुद्धता: ९९.५%, ९९.९५%, ९९.९८%, ९९.९९५%.
टायटॅनियम लक्ष्य उत्पादन प्रक्रिया
टायटॅनियम स्पंज --- टायटॅनियम इंगॉटमध्ये वितळवणे --- चाचणी --- इंगॉट कापणे --- फोर्जिंग --- रोलिंग --- सोलणे --- सरळ करणे --- अल्ट्रासोनिक दोष तपासणी --- पॅकिंग
टायटॅनियम लक्ष्याची वैशिष्ट्ये
१. कमी घनता आणि उच्च विशिष्ट सामर्थ्य
२. उत्कृष्ट गंजरोधकता
३. उष्णतेच्या परिणामास चांगला प्रतिकार
४. क्रायोजेनिक्स गुणधर्मांशी उत्कृष्ट संबंध
५. अचुंबकीय आणि बिनविषारी
६. चांगले औष्णिक गुणधर्म
७. कमी स्थितिस्थापकता गुणांक







